二氧化矽(白炭黑)

工藝流程

捷罡智能裝備

沉澱二氧化矽(白炭黑)先進乾式解聚分級成套解決方案

針對乾燥後沉澱二氧化矽(白炭黑)提供完整乾式深加工產線,涵蓋初級解聚、精細分散、可控研磨、精密分級全流程。產線兼容沉澱二氧化矽與氣相二氧化矽加工,可選配密閉除塵循環系統。搭配空氣分級磨(ACM)、流體化床氣流磨、圓盤氣流磨與獨立式分級機,穩定實現微米級團聚體粒徑精控,服務輪胎橡膠、矽橡膠、塗料及高分散牌號二氧化矽製造產業。

乾式解聚研磨

空氣分級磨(ACM)、流體化床氣流磨、圓盤氣流磨可對沉澱二氧化矽(白炭黑)實現定製化乾式加工。工藝打散噴霧乾燥後形成的硬團聚體,同時完整保留原生聚結構,D50可調區間1~20μm。可選全陶瓷內襯將金屬污染降至ppm級,保障高分散牌號與氣相二氧化矽的BET比表面積與補強性能穩定。

精密氣流分級

獨立式立式、臥式氣流分級機與研磨設備配套形成閉路產線,切割點銳利,可嚴格管控Dmax並剔除粗大顆粒,保障批次間粒徑分佈高度一致。實時粒徑監控穩定成品粉體品質,滿足輪胎橡膠、矽橡膠與高端塗料應用的嚴格入料規範。

密閉除塵輸送

全密閉負壓輸送管路內襯氧化鋁陶瓷或聚氨酯,杜絕二次金屬磨損帶來的雜質污染。封閉系統可抑制粉體吸潮,避免輸送途中產生二次團聚,同時控制二氧化矽粉塵外溢,完全符合高純度無定形二氧化矽產線潔淨生產規範。

智能閉環質控

在線粒徑檢測搭配自動回磨迴路,超標二氧化矽顆粒自動回流再研磨。全流程生產參數完整可追溯,實現沉澱二氧化矽與氣相二氧化矽量產全數字化品質管控,保障每一批次成品粉體性能穩定一致。
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空氣分級磨|沉澱二氧化矽(白炭黑)一體化解聚分級設備

一體化設備,整合衝擊解聚與內置渦輪分級於單機。適配沉澱二氧化矽(白炭黑)中等細度大批量生產,D50調控區間3~15μm,Dmax穩定可控。單機產能大、佔地面積小、綜合運行成本低,適用大型沉澱二氧化矽工廠。

解聚分級一體化

空氣分級磨整合衝擊轉子與內置渦輪分級機,無需外置配套分級機。高效打散沉澱二氧化矽噴霧乾燥後形成的硬團聚體,最大限度減少原生聚集體破損;超標顆粒腔內自動回落重磨,閉路結構大幅降低二氧化矽產線廠房佔地與輔助管路投入。

在線粒度可調

渦輪輪變頻調速,無停機實時調控D50、Dmax,靈活切換橡膠級、塗料級、高分散級等多品種二氧化矽柔性生產。

水冷溫度穩控

研磨腔可選水冷夾套帶走摩擦熱,降低運行溫度,抑制二氧化矽粉體靜電二次團聚,保留沉澱白炭黑成品的BET比表面積與分散性能。

陶瓷內襯實現低金屬污染

轉子、腔內襯、分級輪全陶瓷包覆,金屬磨損雜質降至ppm等級,滿足透明矽橡膠、食品級、化妝品級沉澱二氧化矽高純度要求。

窄粒度分佈

內置高精度渦輪輪切割邊界清晰,成品二氧化矽粉Dmax指標穩定,確保下游橡膠混煉分散均一、塗料體系消光性能穩定。

負壓無粉塵運行

整機微負壓全閉路搭配旋風、布袋收集器,二氧化矽粉無外洩,物料損耗低、車間無粉塵污染,針對超輕質沉澱白炭黑粉體尤為關鍵。

適用限制

不適用D50<2μm的高分散沉澱二氧化矽;該細度規格推薦流體化床氣流磨,可實現更細粒度、更窄分佈效果。
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流體化床氣流磨|高分散沉澱二氧化矽超細解聚設備

流體化床對噴氣流磨採用無介質顆粒自碰撞解聚原理,專為超細高分散沉澱二氧化矽開發,D50調控1~5μm,Dmax嚴控8μm以內,高端矽橡膠、塗料消光粉、疏水白炭黑產線首選。

低污染顆粒自碰撞解聚

超音速對置噴嘴加速二氧化矽顆粒互相撞擊,而非撞擊金屬腔壁,金屬磨損污染降至最低,完全匹配透明矽橡膠、化妝品級、食品級沉澱二氧化矽超高純度需求。

可控超細粒度

配套高精度立式渦輪分級機,穩定產出Dmax≤8μm超細二氧化矽粉,窄粒徑分佈提升橡膠混煉分散性與塗料均勻消光效果。

天然低溫解聚環境

氣體急速膨脹吸熱,工況溫度維持80℃以下,抑制細粉二氧化矽靜電二次團聚,保留原生BET比表面積。常規生產無需額外配置水冷系統。

銳利切割點、窄粒度分佈

內置立式渦輪輪實現極銳分離邊界,殘留粗顆粒極少,各批次白炭黑分散性與補強性能高度統一。

全陶瓷耐磨防護

所有接料部件(解聚腔、噴嘴、分級輪)均採高純氧化鋯/氧化鋁陶瓷內襯,使用壽命長,金屬雜質析出極低。

模組化設計易維護

快拆法蘭搭配大尺寸觀察檢修口,易損備件快速更換,縮走高附加值高分散白炭黑產線停機時間。

適用限制

壓縮空氣消耗量偏高,常規橡膠級白炭黑大噸位量產場景經濟性不足;中等細度大批量產優選空氣分級磨降低運行開支。
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螺旋氣流磨|緊湊型研發小批量二氧化矽解聚設備

螺旋氣流磨採扁平圓盤解聚腔,旋轉部件極少,拆卸清洗徹底。適合實驗室研發、頻繁換料、各品級沉澱二氧化矽小批量試產,D50調控1~10μm,設備初期投入低。

小批量研發高性價比

簡易螺旋渦流架構,僅分級輪為運動部件,備件成本低廉。D50 2~10μm小試規格區間,相較流體化床氣流磨可實現穩定解聚且氣耗更低。

天然低溫解聚環境

噴流膨脹製冷將物料溫度控制90℃以內,小試階段抑制細粒白炭黑靜電團聚,保護粉體BET性能。

結構簡單易清洗

扁平圓盤腔無複雜內擋板,可快速全拆清洗。適用需要頻繁切換橡膠級、塗料級、高分散白炭黑的實驗室,杜絕物料交叉污染。

全陶瓷內襯實現低污染

腔壁、噴嘴、分級輪內襯氧化鋁陶瓷,適用實驗室高純沉澱二氧化矽配方研發。

中細度調節範圍寬廣

內置渦輪輪實現D50 1~10μm連續細度調節,覆蓋實驗室沉澱二氧化矽所有常規測試粒徑規格。

負壓無粉塵運行

密閉負壓迴路搭配除塵器,白炭黑樣品製備時維持實驗室整潔無粉塵。

適用限制

單機每小時處理量低,不適用大噸位量產;超細高分散白炭黑場景Dmax管控精度不如流體化床氣流磨。
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獨立式氣流分級機|沉澱二氧化矽粉精密粒徑分選設備

本設備僅承擔顆粒分選,無解聚功能,需搭配各類幹法解聚設備組成閉路生產線。分立式高產型、臥式超高切割精度兩種結構,可嚴格篩除超大顆粒,滿足高分散沉澱二氧化矽粉料生產需求。

銳利切割點 + 窄粒度分佈

高速渦輪輪形成強離心力場,合格細粉穿過間出料,超標粗粒被甩回重解聚,根除白炭黑粉料批次粒徑波動問題。

在線粒度可調

變頻調節渦輪轉速無需停機,可靈活切換多種白炭黑品級的Dmax管控標準。

閉路配套提升系統整體效率

超標二氧化矽物料實時回流,避免細粉過度處理,相較開路解聚產線降低能耗、提升整線成品良率。

陶瓷內襯實現低金屬污染

分級輪、腔體內壁、進出風管全陶瓷內襯,匹配密閉循環體系下高純度沉澱二氧化矽生產需求。

雙機型適配多元需求

立式機適用常規橡膠級、塗料級白炭黑大批量產;臥式機專供需要嚴格限制Dmax的超細高分散沉澱二氧化矽。

運行穩定、維護成本低

渦輪總成經動平衡校驗,搭配重型軸承系統,二氧化矽產線可長時連續運行,日常保養工作量小。

適用限制

無獨立解聚能力,必須搭配幹式解聚設備使用;進料D50低於2μm時分級效率會大幅下滑。
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高速混合改性機|NCM三元粉體表面包覆複合設備

提供臥式、立式兩種結構。依靠高速混合衝擊,對煅燒NCM粉實現均勻表面包覆、顆粒複合改性,提升成品正極材料振實密度與循環穩定性。可選水冷夾套管控混合溫度,有效抑制高鎳材料改性過程氧化。

均勻納米包覆與顆粒複合

交錯角度高速葉片產生持續擠壓與交變衝擊力,NCM軟團聚充分打散,包覆助劑均勻裹覆於顆粒表面,形成完整納米改性層。

水冷可控混合溫度

混合腔可選配水冷夾套,帶走高速碰撞產生的摩擦熱,避免敏感高鎳NCM在包覆加工時熱變質、表面氧化。

低污染陶瓷結構

葉片、腔內壁可內襯高純氧化鋁陶瓷,降低金屬磨損雜質,匹配動力級單晶NCM高純度需求。

兩種機型對應不同產能場景

臥式適用大批量連續化改性量產;立式緊湊款匹配中試產線與小批量配方研發。

負壓無粉塵密閉運行

整機全密閉微負壓迴路搭配粉塵回收裝置,無NCM粉外洩,車間環境整潔,原料損耗低。

混合參數智能可調

混合轉速、進料量、滯留時間均可數字化調節,適配各鎳含量NCM材料的包覆工藝。

適用限制

僅適用表面包覆複合改性,無法實現NCM原粉超細粉碎;需搭配研磨、分級設備才能組成完整前段加工產線。
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全球項目亮點與客戶現場

全套NCM三元材料幹法生產線佈局全球各大新能源製造基地,定製化研磨、分級、表面包覆成套系統可生產粒徑分佈窄、金屬雜質低、電化學指標穩定的NCM粉料,符合全球鋰電製造規範。
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